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了解一下絕緣薄膜在半導(dǎo)體集成電路中的作用

更新時間:2020-01-07點擊次數(shù):3210
   代表性的集成電路有襯底為硅單晶的雙極性Ic以及MOS IC(金屬一氧化物一半導(dǎo)體堆)等半導(dǎo)體集成電路。本節(jié)中將要討論以超高集成化(VLSI)和超高速化為方向而開發(fā)的這些半導(dǎo)體集成電路中絕緣薄膜所起的作用,以及伴隨著超I.SI化的發(fā)展,今后將提出什么樣的絕緣薄膜技術(shù)等。

  半導(dǎo)體集成電路是在一個單晶基片上形成非常多的(已達10s元件/芯片)雙極晶體管和MOS晶體管等器件,為了發(fā)揮各自所定的功能,并用布線互相連結(jié)起來。

  在這種半導(dǎo)體集成電路中,對絕緣薄膜的利用,可根據(jù)其作用和所要求的特性以及在膜形成工藝中所提出的條件,分類如下:

 ?、倮鏜OS晶體管中的柵絕緣膜,利用了絕緣膜/半導(dǎo)體界面現(xiàn)象,由此可實現(xiàn)有源器件的功能;

 ?、诤推骷嘟佑|,如覆蓋在晶體表面的SiOz膜,可以使晶體表面的化學(xué)性質(zhì)以及電學(xué)性質(zhì)不活潑,從而達到穩(wěn)定器件特性的目的;

 ?、廴缭谄骷g的晶體表面上形成的SiOz膜,使器件之間電氣隔離并在表面上相互布線為目的的絕緣膜(場氧化膜);

 ?、懿季€層之間電氣絕緣為目的的層間絕緣膜;

 ?、輳奈锢淼暮突瘜W(xué)的角度保護器件為目的,在集成電路的表面上形成的作為表面覆蓋膜的絕緣膜;

 ?、抻糜诩呻娐饭に嘰中,并用在雜質(zhì)擴散、腐蝕、襯底表面氧化等進行局部工藝時的掩模等。

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